什么是纳米压印技术

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?▽? 斯迪克:公司在纳米压印领域已形成一定的技术与工艺储备证券之星消息,斯迪克(300806)10月15日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。投资者:尊敬的董秘你好,请问1.贵司纳米压印技术产品开发是否进入量产阶段?2.贵司的纳米涂布技术在国内国际上属于什么水平?有相关产品应用吗?斯迪克董秘:尊敬的投资者,您好!公司在纳米压印领...

●﹏● 光芯片国产突破!纳米压印成本直降90%,产业链爆发在即最近光芯片圈炸出个大新闻——纳米压印技术真能用物理 stamp 直接印出纳米级电路!比起传统 DUV 光刻机动辄上亿的成本,这招成本直接砍到十分之一。说白了就像用橡皮图章盖章,不用复杂光学系统,量产容易还省电。不过嘛,印章用久了会磨损,压印速度也慢,良品率暂时拼不过老牌技...

╯＾╰ DNP 开发 1.4nm 级 NIL 纳米压印图案化模板,目标 2027 年量产IT之家 12 月 9 日消息,日本 DNP(大日本印刷)当地时间今日宣布成功开发出线宽仅 10nm 的 NIL 纳米压印图案化模板,支持 1.4nm 级逻辑半导体以及 NAND 闪存的制造。DNP 在 NIL 图案化技术路线上已有超 20 年的研发历史,最新一代模板产品集成了光掩模和晶圆制造两部分的工艺技术...

【投融资动态】优众微纳A+轮融资,投资方为金雨茂物、五方光电等证券之星消息,根据天眼查APP于9月17日公布的信息整理,江苏优众微纳半导体科技有限公司A+轮融资,融资额未披露,参与投资的机构包括金雨茂物,五方光电,黄海汇创。优众微纳是一家基于自主核心纳米压印技术并专注于半导体微纳器件的IDM公司。优众微纳采用IDM模式,自建Fab工...

佳能光刻机技术升级:5纳米量产突破与新工厂投产佳能近年来在光刻机技术领域动作频频,不断实现技术突破。2024年,佳能在纳米压印光刻技术(NIL)上取得重大进展,成功实现5纳米芯片量产,还计划向2纳米制程发起冲击。其推出的FPA-1200NZ2C系统可实现最小14nm线宽图案化,支持5nm制程逻辑半导体生产,该设备已交付美国得克萨...

中金公司:从消费电子到光通信,光学厂商迎来新机遇中金公司认为其核心技术及大规模高可靠生产能力具备可迁移性,有望构建新的成长曲线。光学厂商长期从事消费电子、车载等“亿级”出货量市场,在超精密冷加工、模压、镀膜、纳米压印、光刻刻蚀等技术上积累深厚,且具备高良率高可靠性量产能力。多家厂商已向光通信微透镜/阵...

中金:从消费电子到光通信 光学厂商迎来新机遇中金公司认为其核心技术及大规模高可靠生产能力具备可迁移性,有望构建新的成长曲线。光学厂商长期从事消费电子、车载等“亿级”出货量市场,在超精密冷加工、模压、镀膜、纳米压印、光刻刻蚀等技术上积累深厚,且具备高良率高可靠性量产能力。多家厂商已向光通信微透镜/阵...

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0.1nm光刻挑战ASML全球众多企业都想研发新技术来挑战甚至颠覆EUV光刻机的垄断地位。 目前市场上已经出现了多种挑战EUV的技术路线。日本佳能在推进NIL纳米压印技术,试图绕过EUV制造5nm及以下芯片;美国有BEL电子束光刻技术;欧洲开发了DSA自生长技术;俄罗斯甚至搞了X射线技术。然而,这些...